هدف تیتانیوم GR5ماده به منبع کندوپاش اطلاق می شود که با کندوپاش مگنترون، آبکاری یونی با قوس چندگانه یا سایر انواع تجهیزات پوششی تحت شرایط فرآیند مناسب، لایه های عملکردی مختلفی را بر روی بستر تشکیل می دهد. اهداف کندوپاش به طور گسترده ای در دکوراسیون، قالب ها، شیشه، دستگاه های الکترونیکی، نیمه هادی ها، ضبط مغناطیسی، نمایش هواپیما، سلول های خورشیدی و بسیاری از زمینه های دیگر استفاده می شود.

خلوص یکی از شاخص های اصلی عملکرد ماده هدف است زیرا خلوص ماده هدف تأثیر زیادی بر عملکرد نازک دارد.

مواد هدف مختلف برای محتوای ناخالصی متفاوت در شرایط مختلف نیازهای متفاوتی دارند.

معمولاً ماده مورد نظر پلی کریستالی با اندازه دانه های مختلف از میکرون تا میلی متر است. برای یک هدف، سرعت کندوپاش هدف با دانه ریز سریعتر از هدف با دانه درشت است. لایه های نازک رسوب شده توسط کندوپاش هدف با اختلاف اندازه دانه کوچکتر (توزیع یکنواخت) توزیع ضخامت یکنواخت تری دارند.

تامین کنندگان هدف کندوپاش تیتانیوم

High Purity Titanium Sputtering Target هدف کندوپاش تیتانیوم با خلوص بالا